1. 結(jié)垢與堵塞

問(wèn)題表現(xiàn)：

• 噴淋層噴嘴堵塞：漿液中雜質(zhì)或結(jié)晶物沉積。

• 管道/換熱器結(jié)垢：石膏或CaSO?過(guò)飽和析出。

• GGH（煙氣換熱器）堵塞：黏性沉積物附著。

原因：

• 漿液pH值控制不當(dāng)（過(guò)高易生成CaSO?軟垢）。

• 氧化不充分（CaSO?未完全氧化為CaSO?）。

• 氯離子（Cl?）含量過(guò)高（來(lái)自燃料或工藝水）。

解決方案：

• 優(yōu)化pH控制：維持pH在5.0~5.8（避免過(guò)高）。

• 強(qiáng)制氧化：增加氧化空氣量，確保CaSO?→CaSO?完全轉(zhuǎn)化。

• 廢水排放：定期排放脫硫廢水，降低Cl?濃度（控制＜20,000mg/L）。

• 機(jī)械清理：安裝在線沖洗系統(tǒng)，定期高壓水沖洗GGH。

2. 腐蝕問(wèn)題

問(wèn)題表現(xiàn)：

• 吸收塔內(nèi)壁、漿液循環(huán)泵葉輪、管道穿孔。

原因：

• 低pH區(qū)域（如噴淋層下部）的酸性腐蝕。

• Cl?引起的點(diǎn)蝕和應(yīng)力腐蝕。

解決方案：

• 材料升級(jí)：關(guān)鍵部位采用玻璃鱗片樹脂、合金鋼（如C276）或橡膠內(nèi)襯。

• 控制Cl?濃度：加強(qiáng)廢水處理或補(bǔ)充新鮮工藝水稀釋。

• 陰極保護(hù)：對(duì)金屬部件施加電化學(xué)保護(hù)。

3. 石膏脫水困難

問(wèn)題表現(xiàn)：

• 石膏含水率＞10%（正常應(yīng)＜10%），黏稠難以分離。

原因：

• 漿液中未反應(yīng)的CaCO?過(guò)多（石灰石過(guò)量）。

• 飛灰（粉塵）混入漿液，影響結(jié)晶。

• 氧化不充分導(dǎo)致CaSO?比例高。

解決方案：

• 調(diào)整石灰石添加量：按化學(xué)計(jì)量比控制，避免過(guò)量。

• 加強(qiáng)除塵：確保電除塵器效率（入口粉塵＜50mg/m3）。

• 優(yōu)化真空脫水機(jī)參數(shù)：調(diào)整濾布沖洗頻率、真空度。

4. 脫硫效率下降

問(wèn)題表現(xiàn)：

• SO?排放濃度超標(biāo)（如＞50mg/m3）。

原因：

• 石灰石活性差（純度低或粒徑過(guò)大）。

• 液氣比（L/G）不足或噴淋覆蓋不均。

• 煙氣流量或SO?濃度超出設(shè)計(jì)值。

解決方案：

• 石灰石質(zhì)量控制：純度≥90%，粒徑≤45μm。

• 增加噴淋層：提高液氣比（通常需3~5L/m3）。

• 煙道旁路優(yōu)化：避免煙氣短路。

5. 廢水處理難題

問(wèn)題表現(xiàn)：

• 廢水含高濃度Cl?、重金屬（如Hg、As），處理成本高。

解決方案：

• 三聯(lián)箱處理工藝：中和（加堿）+沉淀（加硫化物）+絮凝（PAC/PAM）。

• 蒸發(fā)結(jié)晶：零排放工藝（適用于嚴(yán)格地區(qū)）。

• 回用限制：控制廢水回用于脫硫系統(tǒng)的比例。

總結(jié)：關(guān)鍵預(yù)防措施

1. 設(shè)計(jì)階段：合理選擇材料、預(yù)留氧化裕量。

2. 運(yùn)行監(jiān)控：在線監(jiān)測(cè)pH、密度、Cl?濃度等參數(shù)。

3. 維護(hù)制度：定期清理GGH、檢查噴嘴和防腐層。

通過(guò)針對(duì)性調(diào)整工藝參數(shù)、加強(qiáng)設(shè)備維護(hù)和化學(xué)管理，可顯著提升系統(tǒng)穩(wěn)定性和經(jīng)濟(jì)性。