在SCR脫硝系統中，氨逃逸（Ammonia Slip）不僅降低脫硝效率，還會造成二次污染（如銨鹽沉積、設備腐蝕等）。要有效控制氨逃逸，需從系統設計、運行優化和監測維護等多方面綜合施策。
精準噴氨技術
采用分區噴氨或渦流混合技術，結合CFD模擬優化噴氨格柵（AIG）設計，確保氨與煙氣均勻混合，避免局部過量噴氨。
使用動態調諧算法（如PID閉環控制）根據NOx濃度實時調整噴氨量，避免響應滯后。
前饋+反饋控制
通過前饋控制（基于鍋爐負荷、燃料類型預測NOx生成）和反饋控制（出口NOx在線監測）聯動，減少噴氨波動。
活性監控與更換
定期檢測催化劑活性，避免因催化劑老化（如燒結、中毒）導致反應效率下降，需過量噴氨。
采用分層催化劑布置（如高活性催化劑前置）或模塊化更換，延長整體壽命。
抗中毒設計
選擇抗硫、抗堿金屬中毒的催化劑（如TiO?-WO?/V?O?配方），減少因催化劑失效導致的氨逃逸。
煙道導流設計
加裝靜態混合器或導流板，消除煙氣流動死區，確保流速和溫度分布均勻（±10%以內）。
通過冷態模化試驗或CFD仿真驗證流場分布。
溫度控制
維持反應溫度在催化劑最佳窗口（通常300~400℃），避免低溫區氨未反應直接逃逸。
激光光譜技術
采用TDLAS（可調諧激光吸收光譜）實時監測逃逸氨濃度（精度可達±1 ppm）。
數據驅動預警
結合大數據分析（如歷史運行數據、催化劑衰減曲線）預測逃逸風險，提前干預。
定期吹灰
防止積灰堵塞催化劑孔道，導致局部氨穿透。
備用層設計
增設備用催化劑層，在活性下降時投用，避免過量噴氨。
氨噴射系統校準
定期檢查噴嘴霧化效果和氨氣分布均勻性。
控制氨逃逸的核心是均勻性（流場、氨濃度、溫度）和精準性（噴氨控制、催化劑活性）。需結合實時監測與定期維護，必要時通過技術改造升級系統。
活性與選擇性：選擇高活性催化劑（如V?O?-WO?/TiO?），在目標溫度窗口（通常300-400℃）內高效促進NO?與NH?反應，同時抑制副反應（如SO?氧化或氨氧化）。
配方與結構：調整催化劑中活性組分（如釩、鎢）的比例，平衡脫硝效率與氨逃逸。增加催化劑比表面積和孔隙率可提升反應接觸效率。
抗中毒能力：通過摻雜Ce、Mo等元素增強抗硫、抗堿金屬性能，避免催化劑失活導致的氨逃逸上升。
理論配比：NH?/NO?摩爾比通常設定為1:1（根據反應式4NO + 4NH? + O? → 4N? + 6H?O）。實際運行中需略高于理論值（如1.05-1.1）以補償混合不均，但需避免過量（>1.1）導致逃逸。
動態調節：通過在線NO?監測（如CEMS系統）反饋實時調整噴氨量，尤其在負荷波動時。
AIG（氨噴射格柵）設計：采用多噴嘴分區噴射，確保氨與煙氣充分混合。通過CFD模擬或速度場測試優化噴射角度、位置和壓力。
導流板與靜態混合器：加裝混合裝置減少煙氣流動死區，避免局部氨濃度過高。
最佳反應溫度：維持煙氣溫度在催化劑活性窗口內（如釩基催化劑為300-400℃）。溫度過低時反應速率下降，過高則氨易被氧化為NO?。
省煤器旁路或GGH：通過換熱器或旁路調節煙溫，適應低負荷工況。
激光光譜或化學傳感器：實時監測逃逸氨（建議控制在<3 ppm）。
反饋控制：將氨逃逸信號與噴氨系統聯動，動態調整噴氨量。
定期清灰：防止飛灰堵塞催化劑孔道。
催化劑檢測：定期測試催化劑活性模塊，及時更換失活單元。
SO?控制：避免硫酸氫銨（ABS）堵塞，尤其在低溫段（<280℃）。
多層催化劑布置：前端采用高活性催化劑保證脫硝率，后端加裝緩釋催化劑捕捉殘余氨。
SCR+SNCR組合：在高負荷段用SCR保證效率，低負荷段用SNCR補充，減少氨逃逸風險。
脫硝率與氨逃逸的權衡：追求過高的脫硝率（如>95%）可能導致氨逃逸陡增，需根據排放標準合理設定目標（如90-93%）。
經濟性考量：過量的噴氨或頻繁更換催化劑會增加運行成本，需綜合優化。
通過上述措施，SCR系統可在滿足脫硝要求的同時，將氨逃逸控制在安全范圍內，避免下游空預器堵塞或二次污染。
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