申請號: 201310695413.1
       申請日: 2013.12.17
       國家/省市: 中國北京(11)
       公開號: 104711504A
       公開日: 2015.06.17
       主分類號: C23C 4/10(2006.01)
       分類號: C23C 4/10(2006.01); C23C 14/48(2006.01); C23C 14/18(2006.01)
       申請人: 中國科學院微電子研究所; 北京美橋電子設備有限公司
       發明人: 王文東; 夏洋; 李楠
       代理人: 劉杰
       代理機構: 11302
       申請人地址: 北京市朝陽區北土城西路3號

       摘要： 本發明涉及半導體刻蝕機內襯及石英表面防蝕處理技術領域，具體涉及一種應用于石英基材的碳化硼涂層的制備方法。所述制備方法，包括如下步驟：步驟（1），選擇碳化硼粉末，并將碳化硼粉末送入等離子噴涂設備；步驟（2），對待噴涂的石英基材的表面進行Ti離子注入處理，然后使用丙酮和無水乙醇對石英基材的表面進行清洗；步驟（3），通過等離子噴涂設備在石英基材的表面進行等離子噴涂，制備出碳化硼涂層。本發明在石英基材表面進行Ti離子注入處理，增大了石英基材表面的粗糙度，從而可以提高碳化硼涂層與石英基材之間的界面結合強度。

       主權利要求 1.一種應用于石英基材的碳化硼涂層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：步驟（1），選擇碳化硼粉末，并將所述碳化硼粉末送入等離子噴涂設備；步驟（2），對待噴涂的石英基材的表面進行Ti離子注入處理，然后使用丙酮和無水乙醇對所述石英基材的表面進行清洗；步驟（3），通過所述等離子噴涂設備在所述石英基材的表面進行等離子噴涂，制備出碳化硼涂層。