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離子束沉積法

關鍵詞離子束沉積法|2011-06-21 14:55:53|制造技術|來源中國磨料磨具網

摘要此方法是使用考福曼型離子源，使硼，氮原子或分子產生離子化，形成離子束，照射于基板合成立方氮化硼薄膜。通常是在離子源中通入高純度的B3N3H3氣體后就產生了由硼，氮原子，離子和兩原子...

　　此方法是使用考福曼型離子源，使硼，氮原子或分子產生離子化，形成離子束，照射于基板合成立方氮化硼薄膜。通常是在離子源中通入高純度的B3N3H3氣體后就產生了由硼，氮原子，離子和兩原子的分子的離子組成的混合離子束。該離子束在磁場和偏壓電源作用下獲得200—1000eV的能量，打在基板表面上沉積形成立方氮化硼薄膜。

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