金剛石具有優異的物理、化學性質，在所有物質中具有最高的硬度，室溫下有最高的熱導率，極低的熱膨脹系數，低摩擦系數，良好的化學穩定性，大的禁帶寬度(5.5Ev)，最高的聲傳播速度，較高的半導體摻雜性以及從遠紅外光區到紫外光區的光學透過性，使得其在機加工、微電子、光學等許多領域有著廣闊的應用前景。然而天然金剛石數量極少，高溫高壓合成的金剛石由于受粒度限制且價格昂貴，使金剛石的優異性能不能充分利用。1982年，Matsrmto等人使用化學氣相沉積法（CVD）制備出了金剛石膜，使得金剛石的優異性能得以充分發揮，從而在全世界范圍內掀起了CVD金剛石膜研究熱潮。我國目前也加大了對金剛石膜的研究投資力度，并有多家研究單位投入了大量的人力進行此項研究工作，根據國內技術發展現狀和國內技術經濟發展特點，金剛石薄膜涂層工具、金剛石熱沉基片、場發射顯示器件、聲表面波器件及納米金剛石膜的應用將有望陸續進入市場。
　　摘自《金剛石與磨料磨具工程》2004.3