一、化學機械拋光(CMP)簡介化學機械拋光（ChemicalMechanicalPolishing,簡稱CMP）技術是一種依靠化學和機械的協同作用實現工件表面材料去除的...
同花順（300033）金融研究中心06月05日訊，有投資者向三超新材（300554）提問，公司CMP-Disk產品可以用于幾納米芯片？公司回答表示，您好！子公司江蘇三晶...
4月28日晚間，鼎龍股份披露一季報。2025年第一季度，公司實現營業收入8.24億元，同比上升16.37%；實現歸屬于上市公司股東的凈利潤1.41億元，同比上升72.8...
每經AI快訊，4月9日，鼎龍股份在互動平臺表示，海外市場拓展是公司半導體材料未來業務發展的重要組成部分，相關工作目前正在按計劃推進中：如CMP拋光墊產品已在某主流外資邏...
金融界3月20日消息，鼎龍股份（300054）披露投資者關系活動記錄表顯示，公司在半導體材料業務方面持續擴展，2024年公司CMP拋光墊銷售收入約7.31億元，同比增長...
1965年沃爾什和赫爾佐格提出二氧化硅溶膠和凝膠拋光的方法，自此，以二氧化硅漿料為代表的化學機械拋光（CMP）工藝就逐漸取代了機械拋光的主導地位；20世紀80年代中期，...
鼎龍股份（300054）10月9日晚間公告，公司控股子公司湖北鼎匯微電子材料有限公司CMP拋光墊產品銷售持續保持快速增長態勢，并于2024年9月首次實現拋光墊單月銷量破...
1、CMP拋光墊是實現平坦化拋光的核心要件之一根據觀研報告網發布的《中國CMP拋光墊行業發展趨勢分析與未來投資預測報告（2024-2031年）》顯示，在晶圓進行化學機械...
在半導體制造這個高度精密且復雜的領域中，CMP（化學機械拋光）技術宛如一顆隱匿于幕后的璀璨明珠，雖不被大眾所熟知，卻在芯片制造的進程中扮演著不可或缺的關鍵角色。今天，就...
2024年8月3日早上8點18分，浙江博來納潤電子材料有限公司位于衢州智造新城高新片區的107畝二期項目生產基地正式破土開工建設。項目建成后，再加上已經運營的一期項目產...
集成電路是現代化產業體系的核心樞紐，半導體材料作為集成電路產業的基石，在集成電路制造技術不斷升級和產業的持續創新...
化學機械拋光（CMP）是一種超精密的表面加工技術，其通過化學腐蝕和機械磨削的雙重耦合作用，來實現工件表面納米級的局部或全局平坦化。在CMP過程中，磨料作為機械作用和化學...
根據SEMI數據，全球CMP材料成本占比中，拋光液用量最大，其中拋光液占比49%，拋光墊占比33%，合計占比82%，鉆石碟占比9%，清洗液占比5%。拋光液是影響化學機械...
鼎龍股份披露投資者關系活動記錄表顯示，研磨粒子是CMP拋光液的核心原材料，對拋光液產品品質有較大影響，同時在拋光液的材料成本中占比較高。公司實現了研磨粒子的自主制備，有...
近日，多家企業已披露2024年半年度業績預告，其中鼎龍股份業績亮眼。公司預計2024年半年度凈利潤為2.01億元—2.21億元，同比增長110%—130%。公告稱，受國...
1988年，美國商用機器公司（IBM）最先將CMP工藝應用于4MDRAM器件的制造。由于介電質、金屬材料等通過化學氣相沉積（CVD）或物理氣相沉積（PVD）工藝沉積在硅...
拋光液中磨料的作用主要是在晶圓和拋光墊的界面之間進行機械研磨，以確保CMP過程中的高材料去除率。同時，磨料也是影響拋光液穩定性的重要因素之一。眾多磨料中，SiO2磨料因...
3月28日，中國超硬材料網市場總監劉小雨、市場經理高峰一行走...
公元1278年，此時的南宋就如零丁洋里的一片到處漏水的孤舟，...
2023年9月20日，時隔四年，期待已久的第六屆磨料磨具磨削展覽會在鄭州國際會展中心隆重開幕。本次展覽會由中國機械工業集團有限公司、國機精工股份有限公司、中國機械國際合作股份有限公司聯合主辦。旨在推動中國磨料磨具行業的快速發展，加強國內外企業的交流與合作。
1963年，我國成功研制出第一顆人造金剛石，經過幾代人的拼搏奮斗，實現了從無到有、從小到大、從弱到強的華麗蝶變。人造金剛石及其制品在我國航空航天、國防軍工、機床機械等領域發揮著愈發重要的作用。不僅如此，隨著金剛石技術的選代，金剛石民用領域—培育鉆石迎來了自己的大爆發，中國占據了世界培育鉆石產量的80%以上，近幾年在國際上產生了巨大影響力。
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