申請(qǐng)?zhí)? 201580008046.0
申請(qǐng)日: 2015.01.23
國(guó)家/省市: 韓國(guó)(KR)
公開(kāi)號(hào): 105980509A
公開(kāi)日: 2016.09.28
主分類號(hào): C09K 3/14(2006.01)
分類號(hào): C09K 3/14(2006.01); H01L 21/304(2006.01)
申請(qǐng)人: 凱斯科技股份有限公司
發(fā)明人: 權(quán)璋國(guó); 全燦云; 鄭記和; 金廷潤(rùn); 崔洛炫; 李性表; 崔輔爀
代理人: 張晶 王瑩
代理機(jī)構(gòu): 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司(11002)
申請(qǐng)人地址: 韓國(guó)京畿道
優(yōu)先權(quán): KR10-2014-0017239

摘要： 本發(fā)明關(guān)于一種制備研磨液組合物的方法及一種通過(guò)該方法制備的研磨液組合物，該方法及該研磨液組合物可減少刮痕及剩余顆粒且維持高拋光速率，該刮痕及剩余顆粒在應(yīng)用于半導(dǎo)體化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)中被公認(rèn)為因塊狀顆粒及聚結(jié)顆粒所致的良率降低的一個(gè)主要因素。此外，該方法及該研磨液組合物可應(yīng)用于超大規(guī)模整合的半導(dǎo)體程序所需的各種圖案且在針對(duì)應(yīng)用的拋光速率、拋光選擇比率、表示拋光均勻性的晶圓內(nèi)非均勻性(WIWNU)及微痕小型化方面達(dá)成優(yōu)良結(jié)果。 

主權(quán)利要求
1.一種制備研磨液組合物的方法，所述方法包括：通過(guò)混合二氧化鈰磨料顆粒、分散劑及水制備原料研磨液組合物；將所述原料研磨液組合物中的所述等二氧化鈰磨料顆粒粉末化；通過(guò)將含有所述等經(jīng)粉末化二氧化鈰磨料顆粒的所述原料研磨液組合物推送至包括水平圓柱形旋轉(zhuǎn)主體的分離裝置中且使所述原料研磨液組合物離心而自所述原料研磨液組合物移除塊狀顆粒及聚結(jié)顆粒；及獲得移除塊狀顆粒及聚結(jié)顆粒的研磨液組合物。