納米金剛石拋光液：超精密加工背后的“原子級”材料

在現(xiàn)代先進(jìn)制造技術(shù)不斷追求高精度、高質(zhì)量表面加工的進(jìn)程中，拋光工藝作為關(guān)鍵環(huán)節(jié)，對實現(xiàn)材料表面微觀結(jié)構(gòu)的精確調(diào)控和性能優(yōu)化起著決定性作用。納米金剛石拋光...

國產(chǎn)替代搶占幾百億半導(dǎo)體拋光液市場

一、行業(yè)理解：化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）晶圓表面平整化是集成電路制造過程中的關(guān)鍵工藝。CMP工藝是將表面化學(xué)作用與機(jī)械研磨技術(shù)相結(jié)合，去除晶圓表面材料，達(dá)到...

CMP拋光液中常見的磨料材料有哪些？

1965年沃爾什和赫爾佐格提出二氧化硅溶膠和凝膠拋光的方法，自此，以二氧化硅漿料為代表的化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝就逐漸取代了機(jī)械拋光的主導(dǎo)地位；20世...

浙企攻破“卡脖子”技術(shù)斬獲首張CMP拋光液訂單

早上9時左右，敲開寧波潤平電子材料有限公司董事長惠宏業(yè)的辦公室時，他正接起當(dāng)天的第5個電話。電話接二連三，有催訂單的，也有談業(yè)務(wù)、匯報生產(chǎn)進(jìn)度的。“抱歉...

CMP拋光液和拋光墊市場報告：2023年，全球市場規(guī)...

集成電路是現(xiàn)代化產(chǎn)業(yè)體系的核心樞紐，半導(dǎo)體材料作為集成電路產(chǎn)業(yè)的基石，在集成電路制造技術(shù)不斷升級和產(chǎn)業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新發(fā)展中扮演著重要角色。CMP拋光材料是集...

CMP工藝中的拋光液

根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，全球CMP材料成本占比中，拋光液用量最大，其中拋光液占比49%，拋光墊占比33%，合計占比82%，鉆石碟占比9%，清洗液占比5%。拋光...

鼎龍股份：已建成與CMP拋光液產(chǎn)線配套的萬噸級研磨粒...

鼎龍股份披露投資者關(guān)系活動記錄表顯示，研磨粒子是CMP拋光液的核心原材料，對拋光液產(chǎn)品品質(zhì)有較大影響，同時在拋光液的材料成本中占比較高。公司實現(xiàn)了研磨粒子的自主制備，有助于增強(qiáng)公司...

不同類型的硅片研磨和拋光工藝對拋光液的選擇有特定的要...

鼎龍股份拋光液獲千萬級訂單 業(yè)績回升上半年凈利預(yù)增超...

鼎龍股份（300054）(300054.SZ)再傳捷報。7月8日，鼎龍股份發(fā)布的公告顯示，其控股子公司武漢鼎澤新材料技術(shù)有限公司(下稱“鼎澤新材料”)仙桃園區(qū)生產(chǎn)的多晶硅拋光液及氮...

“卡脖子”技術(shù)：國內(nèi)拋光液行業(yè)如何突破？

CMP拋光液作為“卡脖子”技術(shù)之一，工藝復(fù)雜，種類繁多，根據(jù)工件的拋光需求不斷磨合得到合適的拋光液配方，是目前主要的技術(shù)難題。1拋光液：缺一不可化學(xué)機(jī)械...